Cookie-Einstellungen
Diese Website benutzt Cookies, die für den technischen Betrieb der Website erforderlich sind und stets gesetzt werden. Andere Cookies, die den Komfort bei Benutzung dieser Website erhöhen, der Direktwerbung dienen oder die Interaktion mit anderen Websites und sozialen Netzwerken vereinfachen sollen, werden nur mit Ihrer Zustimmung gesetzt.
Konfiguration
Technisch erforderlich
Diese Cookies sind für die Grundfunktionen des Shops notwendig.
"Alle Cookies ablehnen" Cookie
"Alle Cookies annehmen" Cookie
Ausgewählter Shop
CSRF-Token
Cookie-Einstellungen
Individuelle Preise
Kunden-Wiedererkennung
Kundenspezifisches Caching
Session
Währungswechsel
Komfortfunktionen
Diese Cookies werden genutzt um das Einkaufserlebnis noch ansprechender zu gestalten, beispielsweise für die Wiedererkennung des Besuchers.
Merkzettel
Statistik & Tracking
Endgeräteerkennung
Partnerprogramm

System Professional M5 System Man After Shave Balsam 100 ml
19,49 € *
35,00 € *
(44,31% gespart)
Inhalt:
100 Milliliter
inkl. MwSt. zzgl. Versandkosten
Sofort versandfertig, Lieferzeit ca. 2-3 Werktage
- Artikel-Nr.: 11656
System Professional M5 System Man After Shave Balsam 100 ml
Das System Professional M5 System... mehr
System Professional M5 System Man After Shave Balsam 100 ml
Das System Professional M5 System Man After Shave Balsam verleiht täglich Feuchtigkeit und pflegt die Haut nach der Rasur. Sorgt für einen glatten und kühlenden Effekt. Dermatologisch getestet.
Rezepturhighlights des System Professional M5 System Man After Shave Balsam
Für alle Hauttypen geeignet
Tägliche Feuchtigkeitspflege nach der Rasur
Pflegt und beruhigt die Haut
Anwendung des System Professional M5 System Man After Shave Balsam
Sanft auf Gesicht und Hals auftragen.
Weiterführende Links zu "System Professional M5 System Man After Shave Balsam 100 ml"
Bewertungen lesen, schreiben und diskutieren... mehr
Kundenbewertungen für "System Professional M5 System Man After Shave Balsam 100 ml"
Bewertung schreiben
Bewertungen werden nach Überprüfung freigeschaltet.